氧化亚硅真空蒸馏炉

设备用途：氧化亚硅气相沉积包覆炉，是利用真空蒸镀法将粉碎后的所得元素掺杂金属硅与二氧化硅通过真空蒸镀工艺，制得元素掺杂氧化亚硅。

设备特点：

1、本公司自行设计生产的氧化亚硅气相沉积包覆炉有两种加热方式（感应加热、电阻加热和中频感应加热），内部各温区温差在±5℃以内，能有效保证物料在内腔内的反应温度均匀。加热端温度≤1400℃，收集区温度≤900℃。能充分满足客户用于氧化亚硅等可气相沉积材料的烧结工艺。

2、设备采用热电偶接触式测温控温精度高，高温真空度好，物料收集率高，具备物料烘干、烧结、收集于一体等特点，其物料反应充分、收集率高等特点。

3、真空采用三级真空机组，油扩散泵+罗茨泵+机械泵+真空阀门，以及我公司自行生产设计的真空过滤系统组成，具有真空度高，设备能在高温、高真空环境中长期使用。

设备常用尺寸规格：